PVD-Beschichtungsanlage GALACTIC GAVA 500 CAPVD

PVD-Beschichtungsanlage GALACTIC GAVA 500 CAPVD wurde im Jahr 2022 in Polen gebaut. Diese technisch äußerst fortschrittliche Anlage ist für die Beschichtung von u. a. Schneidwerkzeugen, Formen und Stempeln mit äußerst widerstandsfähigen Schichten mit hoher Abriebfestigkeit und chemischer Beständigkeit ausgelegt. Das verwendete CAPVD-Verfahren (Cathodic Arc Physical Vapour Deposition) ermöglicht im Vergleich zu herkömmlichen PVD-Verfahren die Herstellung hochdichter und haftender Schichten mit guten Abscheidungsraten und -dicken (± 5 nm).

Bei diesem Verfahren werden Atome aus einer Quelle (Kathode), die sich in der Arbeitskammer befindet, mit Hilfe eines Lichtbogens verdampft. Diese Atome werden dann auf die Oberfläche der Werkstücke übertragen und abgeschieden, wodurch eine dünne Schicht entsteht. Die PVD-Beschichtungsanlage GAVA 500 ist mit allen notwendigen Komponenten der besten technischen Spezifikationen ausgestattet und erfüllt die höchsten Industriestandards.

Technische Daten der PVD-Beschichtungsanlage GALACTIC GAVA 500 CAPVD

• PLC-Steuerung: MITSUBISHI A1S1
• Beschichtungsarten: TiN, TiCN, TiAlN, TiAlNEX, CrN, ZrN, CrAlN, TiSiAlN, AlCrN, ZrO, CrCO
• Abmessungen der Vakuumkammer (Durchm. x H): ⌀600 x 600 mm
• maximales Werkstückgewicht: 500 kg
• maximales Vakuum: 5x 6-10 mbar
• CAPVD-Verdampfer (2 Stk.)
• Roots Pumpe: LEYBOLD 501 S (2 Stk.)
• Leistung der Roots-Pumpe: 4040 m3/h
• Druck der Roots-Pumpe: 3-10 mbar
• Turbomolekularpumpe: LEYBOLD MAGiNTEGRA
• Leistung der Turbomolekularpumpe: 2000 l/s
• Druck der Turbomolekularpumpe: 6-10 mbar
• Kompressor
• Kühlvorrichtung (Chiller)
• Satellitenklemmen (18 Stk.)
• Prozessgasverteilung: Massendurchflussmessgeräte mit Sensoren
• Temperaturkontrolle: Thermoelement Typ K
• Stromversorgung der Maschine GALACTIC GAVA 500 CAPVD: 3x 400 V; 50 Hz