Machine de pulvérisation cathodique PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD

Machine de pulvérisation cathodique PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD a été construite en 2022 en Pologne. Ce système extrêmement avancé sur le plan technique est conçu pour revêtir, entre autres, des outils de coupe, des moules et des poinçons de revêtements super-durables présentant une résistance élevée à l’abrasion et aux agents chimiques. La méthode CAPVD (Cathodic Arc Physical Vapour Deposition) utilisée, comparée aux méthodes PVD standard, permet de produire des revêtements très denses et adhérents avec de bonnes vitesses de dépôt et de bonnes épaisseurs (± 5 nm).

Dans ce processus, les atomes d’une source (cathode) placée dans la chambre de travail sont vaporisés à l’aide d’un arc électrique. Ces atomes sont ensuite transférés et déposés sur la surface des pièces, créant ainsi un revêtement fin. La machine de pulvérisation cathodique PVD GAVA 500 est équipée de tous les composants nécessaires aux meilleures spécifications techniques et répond aux normes industrielles les plus strictes.

Caractéristiques techniques de la machine de pulvérisation cathodique PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD

• contrôleur PLC : MITSUBISHI A1S1
• types de revêtement : TiN, TiCN, TiAlN, TiAlNEX, CrN, ZrN, CrAlN, TiSiAlN, AlCrN, ZrO, CrCO
• dimensions de la chambre à vide (dia. x h) : ⌀600 x 600 mm
• poids maximal de la pièce : 500 kg
• vide maximal : 5x 6-10 mbar
• évaporateur CAPVD (2 pcs.)
• pompe Roots : LEYBOLD 501 S (2 pcs.)
• capacité de la pompe Roots : 4040 m3/h
• pression de la pompe Roots : 3-10 mbar
• pompe turbomoléculaire : LEYBOLD MAGiNTEGRA
• capacité de la pompe turbomoléculaire : 2000 l/s
• pression de la pompe turbomoléculaire : 6-10 mbar
• compresseur
• dispositif de refroidissement (chiller)
• pinces satellites (18 pcs.)
• distribution des gaz de procédé : débitmètres massiques avec capteurs
• contrôle de la température : thermocouple de type K
• alimentation électrique de la machine GALACTIC GAVA 500 CAPVD : 3x 400 V ; 50 Hz