Stroj na PVD povlakovanie GALACTIC GAVA 500 CAPVD

Stroj na PVD povlakovanie GALACTIC GAVA 500 CAPVD bolo vyrobené v roku 2022 v Poľsku. Tento mimoriadne technicky vyspelý systém je určený okrem iného na povlakovanie rezných nástrojov, foriem a razidiel superodolnými povlakmi s vysokou odolnosťou proti oderu a chemickým látkam. Použitá metóda CAPVD (Cathodic Arc Physical Vapour Deposition) v porovnaní so štandardnými metódami PVD umožňuje vyrábať vysoko husté a priľnavé povlaky s dobrou rýchlosťou nanášania a hrúbkou (± 5 nm).

Pri tomto procese sa atómy zo zdroja (katódy) umiestneného v pracovnej komore odparujú pomocou elektrického oblúka. Tieto atómy sa potom prenášajú a ukladajú na povrch obrobkov a vytvárajú tenký povlak. Stroj na PVD povlakovanie GAVA 500 je vybavený všetkými potrebnými komponentmi s najlepšími technickými špecifikáciami a spĺňa najvyššie priemyselné normy.

Technické špecifikácie zariadenia na naprašovanie PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD

• PLC riadiaca jednotka: MITSUBISHI A1S1
• typy povlakov: TiN, TiCN, TiAlN, TiAlNEX, CrN, ZrN, CrAlN, TiSiAlN, AlCrN, ZrO, CrCO
• rozmery vákuovej komory (priem. x v): ⌀600 x 600 mm
• maximálna hmotnosť obrobku: 500 kg
• maximálne vákuum: 5x 6-10 mbar
• odparka CAPVD (2 ks)
• čerpadlo Roots: LEYBOLD 501 S (2 ks)
• výkon čerpadla Roots: 4040 m3/h
• tlak čerpadla Roots: 3-10 mbar
• turbomolekulárne čerpadlo: LEYBOLD MAGiNTEGRA
• výkon turbomolekulového čerpadla: 2000 l/s
• tlak turbomolekulového čerpadla: 6-10 mbar
• kompresor
• chladiace zariadenie (chiller)
• satelitné rukoväte (18 ks)
• rozvod procesného plynu: hmotnostné prietokomery so snímačmi
• regulácia teploty: termočlánok typu K
• napájanie stroja GALACTIC GAVA 500 CAPVD: 3x 400 V; 50 Hz