Maszyna do sputteringu PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD

Maszyna do sputteringu PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD zbudowana została w 2022 roku w Polsce. Ten niezwykle zaawansowany techniczne system przeznaczony jest do powlekania m.in. narzędzi tnących, form oraz wykrojników super trwałymi powłokami o wysokiej odporności na ścieranie i czynniki chemiczne. Wykorzystywana metoda CAPVD (Cathodic Arc Physical Vapour Deposition), w porównaniu do standardowych metod PVD, pozwala wytworzyć wysoce gęste i przylegające powłoki o dobrej szybkości osadzania i grubości (± 5 nm).

W procesie obróbczym, atomy z umieszczonego w komorze roboczej źródła (katody) odparowywane są za pomocą łuku elektrycznego. Atomy te następnie przenoszą i osadzają się na powierzchnię detali, tworząc cienką warstwę. Maszyna do napylania PVD GAVA 500 wyposażona jest we wszystkie niezbędne podzespoły o najlepszych parametrach technicznych i spełnia najwyższe standardy przemysłowe.

Specyfikacja techniczna maszyny do PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD

• sterowanie PLC: MITSUBISHI A1S1
• rodzaje powłok: TiN, TiCN,TiAlN, TiAlNEX, CrN, ZrN, CrAlN, TiSiAlN, AlCrN, ZrO, CrCO
• gabaryty komory próżniowej (śr. x wys.): ⌀600 x 600 mm
• maksymalny ciężar detalu: 500 kg
• maksymalna próżnia: 5x 6-10 mbar
• ewaporator CAPVD (2 szt.)
• pompa Rootsa: LEYBOLD 501 S (2 szt.)
• wydajność pompy Rootsa: 4040 m3/h
• ciśnienie pompy Rootsa: 3-10 mbar
• pompa turbomolekularna: LEYBOLD MAGiNTEGRA
• wydajność pompy turbomolekularnej: 2000 l/s
• ciśnienie pompy turbomolekularnej: 6-10 mbar
• kompresor
• urządzenie chłodzące (chiller)
• uchwyty satelitarne (18 szt.)
• dystrybucja gazów procesowych: przepływomierze masowe z sensorami
• kontrola temperatury: termopara typu K
• zasilanie maszyny GALACTIC GAVA 500 CAPVD: 3x 400 V; 50 Hz